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石墨乳納米分散機,結合我司相關客戶案例,推薦GMSD2000系列研磨式納米分散機,對于石墨進行分散,保證效果,一般粒徑可細化至1μm,分散均勻高。另外GMSD2000系列納米分散機在石墨烯的分散中也具有巨大的優勢。
光催化劑超高速分散機,光催化材料應用中,一般需要將二氧hua鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩定。
四級高剪切分散機,在保證了具備三高剪切分散機性能特點外,增加一級模塊(多種規格選擇),來實現更好的分散。
光觸媒涂料研磨分散機,光觸媒涂料應用中,一般需要將二yang化鈦光觸媒分散到涂料基料中,形成懸浮液,需要對光觸媒環保涂料體系進行研磨分散,結合多家客戶案例,推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。
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